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Gas disilano/gas Si2H6/gas semiconduttore
$50000.00
≥2 Others
| CAS No. : | 1590-87-0 |
|---|
Foshan, Guangdong, China
- Produttore
- Compagnia commerciale
- Certificazione della piattaforma
Descrizione del prodotto
Disilano e silano si decompongono termicamente intorno a 640 °C, depositando silicio amorfo. Questo processo di deposizione chimica da vapore è rilevante per la produzione di dispositivi fotovoltaici . Nello specifico viene utilizzato nella produzione di wafer di silicio.
Halocarbon 116 (esafluoroetano)
Halocarbon 14 (Tetrafluorometano)
Halocarbon 218 (perfluoropropano)
Halocarbon 23 (trifluorometano)
Halocarbon 32 (difluorometano)
Halocarbon 41 (fluoruro di metile)
Halocarbon 4110 (Octafluorociclopentene)
Halocarbon C318 (ottafluorociclobutano)
Foshan, Guangdong, China
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